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东方晶源亮相 ICCAD2023,前瞻性一体化良率解决方案获关注!

发表于:2026-11-04 作者:千家信息网编辑
千家信息网最后更新 2026年11月04日,11 月 10-11 日,第 29 届中国集成电路设计业 2023 年会暨广州集成电路产业创新发展高峰论坛(ICCAD)在广州成功举办。作为国内集成电路设计业的顶级盛会,本届 ICCAD 吸引了众多国
千家信息网最后更新 2026年11月04日东方晶源亮相 ICCAD2023,前瞻性一体化良率解决方案获关注!

11 月 10-11 日,第 29 届中国集成电路设计业 2023 年会暨广州集成电路产业创新发展高峰论坛(ICCAD)在广州成功举办。作为国内集成电路设计业的顶级盛会,本届 ICCAD 吸引了众多国内外头部 EDA 企业参会。东方晶源受邀亮相本次展会,展示旗下制造类 EDA 的多项产品和技术。同期,在 FOUNDRY 与工艺技术论坛带来精彩演讲,分享前瞻性一体化良率解决方案 HPOTM 及最新技术演进成果,受到行业高度关注。

随着集成电路技术节点的不断演进,工艺复杂程度不断增加,良率变得极具挑战。围绕良率提升,业界进行了诸多探索,其中设计与制造工艺的协同优化(DTCO)成为主流的解决思路之一。DTCO 方法论的核心是通过设计和制造的深度协同,让双方从各自擅长的方面出发去寻求整体的更优结果。

东方晶源从创立伊始便瞄准行业发展痛点,聚焦集成电路制造良率管理领域,提出了独树一帜的 DTCO 解决方案 --HPOTM(Holistic Process Optimization)良率最大化技术路线和产品设计理念。HPOTM 以纳米级检测装备 + 核心 EDA 工具链无缝链接为核心技术优势,打通芯片设计与制造过程中的信息差,提高效率、降低制造成本,实现了芯片制造过程的可计算性、可视性和可测性以及无缝链接,使芯片制造过程从"艺术"到"科学"再到"智能",最终降低芯片制造门槛。

在 ICCAD2023 的 FOUNDRY 与工艺技术论坛中,东方晶源战略产品总监张生睿带来题为《一体化良率解决方案实践:从设计可制造性优化到彻底的 OPC 坏点解决策略》的主题分享。介绍了目前东方晶源综合物理设计工具和 OPC 工具,以及从双方各自擅长方面出发寻求整合优化结果的一些具体实践,展示了如何通过 HPOTM 实现芯片设计制造协同优化,为行业提供更具竞争力的良率提升解决方案。

在东方晶源展台,对支持 HPOTM 解决方案的诸多点工具进行了更为详细的展示和介绍。其中制造类 EDA 部分,继旗下计算光刻软件 PanGen 填补国内空白、领跑国内相关发展后,东方晶源又成功打造出严格光刻仿真软件 PanSim、良率管理软件 YiledBook 等制造类 EDA 工具。在电子束检测量测领域,凭借电子束缺陷检测设备 EBI、关键尺寸量测设备 CD-SEM 以及电子束缺陷复检设备 DR-SEM 三款拳头产品,已成为国内电子束检测量测领域的领导者。

未来,东方晶源将继续围绕 HPOTM 解决方案进行更多深化和探索,打造更多点工具,走出一条自主可控的创"芯"之路,与产业链上下游合作伙伴携手,建立适合中国集成电路产业的全新生态。

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