ASML 回应：没有面向中国市场推出特别版的光刻机

CTOnews.com 7 月 6 日消息，据证券时报，针对有媒体报道 ASML 试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版 DUV 光刻机事宜，7 月 6 日午后，ASML 回应称：一直以来 ASML 都遵守所适用的法律条例，公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。

此前据 DigiTimes 报道，ASML 试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版 DUV 光刻机。消息称，如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。

CTOnews.com注意到，此前荷兰方面正式宣布了最新的决定，要求企业出口先进设备前需要获得许可证，新规将在 9 月 1 日生效。在荷兰新规出台之后，ASML 表示，根据新出口管制条例规定，该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式 DUV 系统 (即 TWINSCANNXT：2000i 及后续推出的浸润式光刻系统)。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向 ASML 提供许可证所附条件的细节。

ASML 在声明中重点指出，荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及 TWINSCANNXT：2000i 及后续推出的浸润式光刻系统 (DUV，深紫外光刻)。而该公司的 EUV 光刻 (极紫外光刻) 系统在此前已经受到限制，其他系统的发运暂未受荷兰政府管控。