韩国 ESOL 今年将展示第二代 EUV 原型设备

CTOnews.com 2 月 11 日消息，据 TheElec 报道，韩国 EUV 设备制造商 ESOL 首席执行官 Kim Byung-gook 在接受采访时表示，今年将推出其第二代 EUV（极紫外）设备原型。

KimByung-gook 说，该公司去年获得了 350 亿韩元（当前约 1.88 亿元人民币）的资金，其中大部分将用于研发。到目前为止，ESOL 已经在其第一代产品线中推出了四款产品。其中，EUV 掩模检查设备和 EUV 薄膜透光率检测机已经产生收入。

ESOL 是芯片薄膜制造商 FST 的子公司，由曾在三星芯片业务部门工作的 Kim Byung-gook 于 2018 年创立。

CTOnews.com了解到，ESOL 主要开发 EUV 解决方案，专注于为 EUV 或极紫外光刻应用开发各种解决方案和设备。

其第一代产品线的另外两款产品，即 EUV 相位反转掩模机和用于光刻胶显影的光刻机，也有望在今年产生收入。

ESOL 目前的四款产品中的主要产品是其薄膜透光率检测设备，在该领域它至少要面临两个竞争对手。

EUV 掩模检查设备称为 SREM 330，拥有扫描反射 EUV 显微镜，还有称为 FREM 或全场反射 EUV 显微镜的配套设备正在开发中。

同时，ESOL 公司 EUV 第二代阵容共有三款产品，其中一款将于今年推出。新设备将包括升级后的 EUV 掩模检查设备，可以扫描掩模的整个表面，而不是像第一代机器那样只扫描某些点。