盛美上海首台前道 ArF 工艺涂胶显影设备 Ultra LITH 顺利出机

CTOnews.com 12 月 29 日消息，盛美上海宣布，首台具有自主知识产权的涂胶显影 Track 设备 Ultra LITH 成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道 ArF 工艺涂胶显影 Track 设备，该设备由盛美半导体设备 (亚太) 制造中心完成出货。

盛美上海将于 2023 年推出 i-line 型号设备，并且公司已开始着手研发 KrF 型号设备。

涂胶显影 Track 设备支持光刻工艺，可确保满足工艺要求，同时让晶圆在光刻设备中曝光前后的涂胶和显影步骤得到优化。

CTOnews.com获悉，盛美上海涂胶显影 Track 设备是一款应用于 300 毫米晶圆工艺的设备，共有 4 个适用于 12 英寸晶圆的装载口，8 个涂胶腔体、8 个显影腔体。该设备腔体温度可精准控制在 23°C ±0.1°C ，烘烤范围为 50°C 至 250°C，晶圆破损率低于 1/50,000 。此外，全球专利申请保护的全新结构设计还可拓展支持 12 个涂胶腔体及 12 个显影腔体，每小时晶圆产能可达 300 片，将来在配备更多的涂胶和显影腔体的条件下还能达到每小时 400 片以上的产能。

盛美上海致力打造晶圆级的工艺解决方案平台，旗下产品还包括单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备，及 PECVD 设备。